1. Advances in CMP/polishing technologies for the manufacture of electronic devices
پدیدآورنده : edited by Toshiro Doi, Ioan D. Marinescu, Syuhei Kurokawa.
کتابخانه: مرکز و کتابخانه مطالعات اسلامی به زبانهای اروپایی (قم)
موضوع : Chemical mechanical planarization.,Electrolytic polishing.,Grinding and polishing.
